幾種沉積氮化鈦涂層的新技術
王福貞(深圳豪威多弧離子鍍科技有限公司,廣東深圳  518057)

    介紹了幾種沉積氮化鈦涂層的新技術。利用輔助磁場消除多弧離子鍍沉積氮化鈦膜層中的熔滴,細化膜層組織;安裝平面大弧源和柱狀弧源的多弧離子鍍膜機,使多弧離子鍍膜機結構簡化、操作簡便;采用非平衡磁控濺射源擴展了鍍膜室內等離子體范圍,有利于磁控濺射沉積氮化鈦超硬涂層。
1、前言
    氮化鈦膜作為超硬涂層用于提高工模具的使用壽命的歷史已經有2-余年。目前,能夠進行產業化沉積氮化鈦涂層的沉積技術主要有三極磁控濺射、活性反應離子鍍、空心陰極離子鍍、熱絲弧離子鍍、多弧離子鍍。在這些沉積技術中以多弧離子鍍的金屬離化率最高、金屬離子流密度最高,最容易獲得氮化鈦等化合物涂層。
    由于多弧離子鍍技術已經成為沉積氮化鈦超硬涂層的重要技術,因此大家對它的研究、改進做了大量工作。
2、消除熔滴、細化膜層組織
2.1 在靶面附近設直線型磁場     2.2 在靶面附近設偏轉型磁場
3、簡化多弧離子鍍膜機結構
3.1 矩形平面大弧源多弧離子鍍膜機    3.2 柱狀弧源多弧離子鍍膜機
4、新型非平衡磁控濺射離子鍍膜機
4.1 平衡磁控濺射   4.2 非平衡磁控濺射

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